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工学部 物質材料工学専攻 材料設計工学講座
准教授
伊藤 治彦 (イトウ ハルヒコ)
ITO Haruhiko
物材1号棟5F 530
TEL】 0258-47-9330
E-mail】
本務, 長岡技術科学大学, 准教授, 2007年04月01日 ~ 継続中
本務, 長岡技術科学大学, 助教授, 1994年04月01日 ~ 2007年03月31日
本務, 長岡技術科学大学, 助手, 1989年01月01日 ~ 1994年03月31日
分子科学研究所, 日本学術振興会特別研究員, 1988年04月01日 ~ 1988年12月31日
薄膜・表面界面物性
プラズマ科学
物理化学
ニューダイヤモンドフォーラム
Quantitative NEXAFS and solid-stateNMR studies of sp3/(sp2+sp3) ratio in the hydrogenated DLC films, Diamond and Related Materials, 73巻, 1号, 232頁 ~ 240頁, 2017年03月20日, X.-L. Zhou, S. Tunmee, T. Suzukc, P. Phothongkam, K. Kanda, K. Komatsu,S. Kawahara, H. Ito, H. Saitoh
Investigation of Pitting Corrosion of Diamond-like Carbon Films Using Synchrotron-based Spectromicroscopy, Journal of Applied Physics, 120巻, 195303号, 1頁 ~ 10頁, 2016年11月26日, S. Tunmee, P. Photongkam, C. Euaruksakul, H. Takamatsu, X. L. Zhou, P. Wongpanya, K. Komatsu, K. Kanda, H. Ito, and H. Saitoh
Fabrication of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Hexamethyldisilane with Microwave Discharge Flow of Ar, japanese Journal of Applied Physics, 55巻, 06HC01号, 1頁 ~ 9頁, 2016年05月20日, H. Ito, M. Kumakura, T. Suzuki, M. Niibe, K. Kanda, and H. Saitoh
Changes of chemical structure of hydrogenated amorphous silicon, Diamond and Related Materials, 66巻, 1号, 1頁 ~ 9頁, 2016年03月18日, Haruhiko Ito, Takeshi Ogaki, Motoki Kumakura, Shunsuke Saeki, Tsuneo Suzuki, Hiroki Akasaka, Hidetoshi Saitoh
Contribution of CN(X2Sigma+) Radicals to N Atoms of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride Films Formed from the Microwave Discharge of the Gas Mixture of N2 and CH3CN, Diamond and Related Materials, 63巻, 3月号, 125頁 ~ 131頁, 2016年03月01日, Haruhiko Ito, Nobuyoshi Mogi, Kohtaro Okada, and Hiroki Tsudome
単著, Optimization of the Electric-Field Emission Type Microplasma Device Based on the Spectroscopic Measurement of Hydrogen-Containing Free Radicals, Optimization of the Electric-Field Emission Type Microplasma Device Based on the Spectroscopic Measurement of Hydrogen-Containing Free Radicals, Scientific Research on Priority Area, "Generation of Micro-Scale Reactive Plasmas and Development of Their New Applications", Summary Report, Graduate School of Engineerring, Kyoto University, 39頁 ~ 42頁, 2008年03月
単著, 18th International Symposium on Plasma Chemistry, Full-paper CD, Mechanism of Dissociative Excitation of BrCN in Electron Cyclotron Resonance , 18th International Symposium on Plasma Chemistry, Full-paper CD,30P-17, ISPC-18 Office, 1頁 ~ 4頁, 2007年08月
単著, 日本語, アモルファス炭素系材料合成のためのプラズマ分子分光計測 , 未設定, 伊藤治彦, New Diamond, ニューダイヤモンドフォーラム, 92巻, 1号, 44頁 ~ 50頁, 2009年01月
単著, 日本語, アモルファス炭素系材料合成のためのプラズマ分子分光計測 , 未設定, 伊藤治彦, New Diamond, ニューダイヤモンドフォーラム, 91巻, 1号, 48頁 ~ 54頁, 2008年10月
単著, 日本語, アモルファス炭素系材料合成のためのプラズマ分子分光計測 , 未設定, 伊藤治彦, New Diamond, ニューダイヤモンドフォーラム, 90巻, 1号, 45頁 ~ 51頁, 2008年07月
単著, 日本語, アモルファス炭素系材料合成のためのプラズマ分子分光計測 , 未設定, 伊藤治彦, New Diamond, ニューダイヤモンドフォーラム, 89巻, 1号, 45頁 ~ 49頁, 2008年04月
単著, 日本語, アモルファス炭素系材料合成のためのプラズマ分子分光計測 , 未設定, NEW DIAMOND, オーム社, 24巻, 1号, 36頁 ~ 38頁, 2008年01月
Synthesis and Structural Analysis of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitrides with High [N]/([N]+[C]) Ratios, IUMRS-ICAM2017, 2017年08月31日
CN(X2-sigma+) Radicals as the Precursor of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride Films, IPS2016, 2016年06月29日
Si(CH3)4の放電分解によるa-SiCx:H薄膜の形成 ― 表面O原子と膜厚に関する考察, 2017年 第64回応用物理学会春季学術講演会, 2016年03月16日
Fabrication of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Hexamethyldisilane with Microwave Discharge Flow of Ar, Dry Process Symposium 2015, 2015年11月06日
Precursor of N atoms of Hydrogeneated Amorphous Carbon Nitride Films Formed from the Microwave Discharge of C2H2/N2 Gas Mixture, ISPlamsa 2015, 2015年03月30日
プラズマCVD法を用いた硬質アモルファスSiC薄膜の形成, 特願2008-217770
2018/01/22 更新
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