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工学部 電気電子情報工学専攻 電子デバイス・フォトニクス工学講座
教授
河合 晃 (カワイ アキラ)
KAWAI Akira
電気1号棟 404
TEL】 0258-47-9512 FAX】 0258-47-9512
E-mail】
本務， 長岡技術科学大学 電気系， 教授， 2013年10月01日 ～ 継続中
三菱電機株式会社 ＵＬＳＩ研究所， 主事， 1983年04月01日 ～ 1993年03月31日
本務， 長岡技術科学大学， 准教授， 2007年04月01日 ～ 2013年09月30日
本務， 長岡技術科学大学， 助教授， 1993年04月01日 ～ 2007年03月31日
長岡技術科学大学， 工学研究科， 材料工学専攻， 博士課程， 1992年08月31日
長岡技術科学大学， 工学研究科， 電子機器工学専攻， 修士課程， 1983年03月25日
長岡技術科学大学， 工学部， 電子機器工学課程， 1981年03月25日
博士(工学）， 長岡技術科学大学
工学修士， 長岡技術科学大学
電子デバイス・電子機器
薄膜・表面界面物性
電子・電気材料工学
ナノ・マイクロシステムデバイス (nano-micro system) の開発， マイクロ流体MEMS、生体バイオMEMS、パワーMEMS、カプセルMEMS
次世代デバイスプロセス技術の開発， 微細加工技術、リソグラフィ、レジスト材料、エッチング技術、膜形成、濡れ・付着・乾燥、はんだ技術、超清浄
ナノ計測制御技術の開発， 走査型プローブ顕微鏡（ＡＦＭ）、ナノインデント、ナノアドヒージョン、ナノマニピュレーション、ＤＰＡT(direct peeling by using AFM tip) 技術
電気学会
精密工学会
副会長、理事、支部長等， にいがたナノテク研究会， 副会長， 2009年04月01日 ～ 2010年03月31日
その他役職， にいがたナノテク研究会 ， ＭＥＭＳ分科会リーダー， 2006年04月01日 ～ 2007年03月31日
その他役職， 一般社団法人日本接着学会， 評議員， 2016年06月24日 ～ 2017年06月23日
Negative pattern formation in positive resist layer by EB / UV hybrid lithography， J. Photopolymer Science and Technology， 29巻， 4号， 603頁 ～ 606頁， 2016年05月01日， Hiroki Nakano, Kenta Takahashi
Tactile senses control by contacting a human finger with micro resist pattern arrangements， J. Photopolym. Sci. Technol.， 27巻， 6号， 27頁 ～ 31頁， 2014年12月01日， Kunii Yako, Akira Kawai
Liquid Penetration Control of Photoresist/Perfluorosulfonic Acid (PFSA) Double Layer Structure by Hydrophobic Treatment， J. Photopolymer Science and Technology， 26巻， 6号， 727頁 ～ 732頁， 2013年12月01日， Yosuke Sakurai, Kenta Takahashi, Akira Kawai
Fabrication and Durability of Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC) by Photolithography Process， J. Photopolymer Science and Technology， 26巻， 6号， 751頁 ～ 756頁， 2013年12月01日， Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai
Micro Polymer Capsule Constructed with Micro Pillars Formed by Multi Laminating Method， J. Photopolymer Science and Technology， 24巻， 2号， 647頁 ～ 650頁， 2011年06月23日， Akira Kawai
単著， 外国語， Nanoscale characterization in resist processing by using atomic force microscope”， 未設定， J. Photopolymer Science and Technology， J. Photopolymer Science and Technology， 18巻， 6号， 729頁 ～ 736頁， 2005年04月
単著， 日本語， 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による微細高分子パターンの付着・凝集性解析， 未設定， 河合 晃， 接着， 高分子刊行会， 49巻， 10号， 439頁 ～ 445頁， 2005年10月
単著， 日本語， 走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）のデバイスプロセス評価への有効利用， 未設定， ， ＳＥＭＩ Ｎｅｗｓ， ＳＥＭＩ ， 3-4巻， 号， 34頁 ～ 35頁， 2007年03月
単著， 日本語， 微細領域での接着解析技術の進歩， 未設定， 河合 晃， 日本接着学会誌， 日本接着学会， 40巻， 10号， 512頁 ～ 514頁， 2004年10月
単著， 日本語， 走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）によるデバイスプロセス評価， 未設定， 河合 晃， ＮＥＩＡニュース， 新潟県電子機械工業会， 242巻， 1号， 26頁 ～ 27頁， 2007年05月
著書， 塗膜・レジスト膜の乾燥・付着技術とトラブル対策， 情報機構， 2011年03月25日， 河合 晃， 単著， 196
著書， 欠陥を出さない！良い塗布膜を得るためのコントロール技術， サイエンス＆テクノロジー， 2012年07月30日， 河合 晃， 単著， 197
著書， 現場で応用できるコーティングの理論と現象－トラブルをメカニズムから考える－， 加工技術研究会， 2012年10月29日， 河合 晃， 単著， 184
著書， 高分子の残留応力対策， 技術情報協会， 2017年03月01日， 河合、多数， 共著， 480
著書， シランカップリング剤の使いこなし ノウハウ集， 技術情報協会， 2016年12月01日， 河合、多数， 共著， 384
(Invited paper) Fluid Control MEMS constructed with Polymer Materials， International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2011， 2011年06月24日
(Invited paper) Nano- Porous Structure in Polymer Micro Pattern Analyzed by Atomic Force Microscopy(AFM)， Nano S&T， 2011年10月23日
(Invited paper) Condensation behavior of nanoscale bubbles on ArF excimer resist surface analyzed by atomic force microscope， International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2005 ， 2005年06月28日
(Invited paper) Micro bubbles capturedby micro defect on flat substrate， 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004)， 2004年10月23日
(Invited paper) Adhesion and cohesion properties of micro condensed matter analyzed by atomic force microscope (AFM) ， 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004)， 2004年10月23日
振動測定装置及び振動測定方法， 特許5004223号(2012年）
ナノ気泡の判別方法及びその装置， 特許5013320号(2012年）
現像装置， 特許公報(B2) 平3－185710
フォトマスク， 特許 2641589
半導体装置の製造方法， 特許 2580681
Photopolymer Science and Technology Award ， 国際学会賞， 2005年06月23日， Photopolymer Science & Technology Committee ， 単独
日本接着学会 論文賞， ， 2002年06月23日， 日本接着学会， 共同（主担当）， 原子間力顕微鏡（AFM）を用いた微細探針走査法によるフォトレジスト微細パターンの接着性解析
日本接着学会 進歩賞， 国内学会の奨励賞・進歩賞， 1999年06月23日， 日本接着学会， 単独， 原子間力顕微鏡を用いた表面相互作用力の解析
ベストポスター賞 ， ， 2005年06月22日， 日本接着学会 ， 共同（主担当）， 微細探針のインデンテーション法による高分子パターンの表面硬化層の解析
ベストポスター賞， ， 2002年06月23日， 日本接着学会， 共同（主担当）， 原子間力顕微鏡（AFM）を用いたサブミクロンサイズのラインレジストパターン表面のインデンテーション解析
有機溶剤作業主任者， 1984年06月08日， 10998
特定化学物質等作業主任者， 1987年05月14日， 13649
危険物取扱者（乙種）， 1992年01月20日， 01381
独立行政法人日本学術振興会， 科学研究費委員会専門委員（2014～2015年基盤研究等第1段審査委員）， 委員， 2014年12月11日 ～ 2015年01月14日
独立行政法人日本学術振興会， 科学研究費委員会専門委員(２００７～２００９年基盤研究等第１段審査委員)， 委員， 2008年12月01日 ～ 2009年11月30日
独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥDO)， 「次世代半導体材料・プロセス基盤(MIRAI)プロジェクト」ＮＥＤＯ研究評価委員会分科会委員， 委員， 2008年12月01日 ～ 2009年03月31日
科学技術振興機構（ＪＳT)， シーズ発掘試験査読評価委員会， 委員， 2007年04月01日 ～ 2009年03月31日
国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)， 「次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発」研究評価委員会， 委員， 2016年06月01日 ～ 2016年06月21日
2018/01/12 更新
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