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会議での講演 - 伊藤　治彦

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38 件中 1 - 20 件目

1．
マイクロ波プラズマCVDを用いたC6H6/N2系における高窒素含有a-CNx：H薄膜の形成，第６９回応用物理学会春季学術講演会， 2022年03月24日
2．
Fabrication and Structural Analysis of a-CNx:H Films with High N/(N+C) Ratio Formed from the RF-Plasma CVD of the C6H6-N2 Gas Mixture， NDNC2021， 2021年06月07日
3．
ヘキサンとN2の混合気体マイクロ波放電を用いて作製した高窒素含有a-CNx:H膜の結合状態解析，第78回応用物理学会秋季学術講演会， 2017年09月07日
4．
Synthesis and Structural Analysis of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitrides with High [N]/([N]+[C]) Ratios， IUMRS-ICAM2017， 2017年08月31日
5．
CN(X2-sigma+) Radicals as the Precursor of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride Films， IPS2016， 2016年06月29日
6．
Si(CH3)4の放電分解によるa-SiCx:H薄膜の形成 ― 表面O原子と膜厚に関する考察， 2017年第64回応用物理学会春季学術講演会， 2016年03月16日
7．
Fabrication of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Hexamethyldisilane with Microwave Discharge Flow of Ar， Dry Process Symposium 2015， 2015年11月06日
8．
Precursor of N atoms of Hydrogeneated Amorphous Carbon Nitride Films Formed from the Microwave Discharge of C2H2/N2 Gas Mixture， ISPlamsa 2015， 2015年03月30日
9．
Production of CH(A2) Radicals from the Dissociative Excitation Reaction of C2H2 with Microwave Discharge Flow of Ar， Dry Process Symposium 2014， 2014年11月28日
10．
Laser-Induced Fluorescence Measurements on the Microwave-Plasma Flow Producing Amorphous Carbon Nitrides with High [N]/([N]+[C]) Ratios， IUMRS-ICA2014， 2014年08月28日
11．
Laser-Spectroscopic Measurements of the Free Radicals Produced from the Dissociation of C2H2 with the Microwave Discharge Flow of Ar， IUMRS-ICA2014， 2014年08月28日
12．
「光と薄膜」―プラズマの分光計測にもとづく炭素系薄膜の材料設計，第61回応用物理学会春季学術講演会， 2014年03月17日
13．
高い窒素含有率を有するアモルファス窒化炭素薄膜の一般的合成法の確立，第27回ダイヤモンドシンポジウム， 2013年11月21日
14．
Mechanism of the Production of the CH(A2) State from the Dissociative Excitation of Tetramethylsilane in the Electron-Cyclotron Resonance Plasma of Ar， DPS2013， 2013年08月30日
15．
Mechanism of Film hardening of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films Fabricated by the Decomposition of Tetramethylsilane with the Microwave Discharge Flow of Ar， ISSP2013， 2013年07月10日
16．
アモルファス炭化ケイ素薄膜の硬質化メカニズム，第６０回応用物理学会春季学術講演会， 2013年03月28日
17．
アモルファス窒化炭素薄膜の窒素源について，第６０回応用物理学会春季学術講演会， 2013年03月28日
18．
Fabrication of Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Tetramethylsilane using ECR Plasma of Ar， APCPST & SPSM 2012， 2012年10月03日
19．
Source of nitrogen atoms of amorphous carbon nitride films fabricated with microwave-plasma CVD processes， IUMRS-ICEM2012， 2012年09月28日
20．
Arの電子サイクロトロン共鳴プラズマにおけるC2H2の解離励起，第59回応用物理学関係連合講演会， 2012年03月17日

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