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論文 - 伊藤　治彦

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43 件中 1 - 20 件目

• 1．

  Structural analysis of hydrogenated amorphous carbon nitride films formed from， Japanese Journal of Applied Physics， 58巻， SE号， SEED02-1頁 ～ SEED02-6頁， 2019年06月01日， Haruhiko Ito, Chitose Sekizaki, Sho Fukuhara, and Hidetoshi Saitoh

• 2．

  Structural analysis of amorphous carbon films by spectroscopic ellipsometry, RBS/ERDA, and NEXAFS， Applied Physics Letters， 110巻， 20号， 201902頁， 2018年05月15日， X. L. Zhou, T. Suzuki, H. Nakajima, K. Komatsu, K. Kanda, H. Ito, and H. Saitoh

• 3．

  Quantitative NEXAFS and solid-stateNMR studies of sp3/(sp2+sp3) ratio in the hydrogenated DLC films， Diamond and Related Materials， 73巻， 1号， 232頁 ～ 240頁， 2017年03月20日， X.-L. Zhou, S. Tunmee, T. Suzukc, P. Phothongkam, K. Kanda, K. Komatsu,S. Kawahara, H. Ito, H. Saitoh

• 4．

  Investigation of Pitting Corrosion of　Diamond-like Carbon Films Using Synchrotron-based Spectromicroscopy， Journal of Applied Physics， 120巻， 195303号， 1頁 ～ 10頁， 2016年11月26日， S. Tunmee, P. Photongkam, C. Euaruksakul, H. Takamatsu, X. L. Zhou, P. Wongpanya, K. Komatsu, K. Kanda, H. Ito, and H. Saitoh

• 5．

  Fabrication of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Hexamethyldisilane with Microwave Discharge Flow of Ar， japanese Journal of Applied Physics， 55巻， 06HC01号， 1頁 ～ 9頁， 2016年05月20日， H. Ito, M. Kumakura, T. Suzuki, M. Niibe, K. Kanda, and H. Saitoh

• 6．

  Changes of chemical structure of hydrogenated amorphous silicon， Diamond and Related Materials， 66巻， 1号， 1頁 ～ 9頁， 2016年03月18日， Haruhiko Ito, Takeshi Ogaki, Motoki Kumakura, Shunsuke Saeki, Tsuneo Suzuki, Hiroki Akasaka, Hidetoshi Saitoh

• 7．

  Contribution of CN(X2Sigma+) Radicals to N Atoms of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride Films Formed from the Microwave Discharge of the Gas Mixture of N2 and CH3CN， Diamond and Related Materials， 63巻， 3月号， 125頁 ～ 131頁， 2016年03月01日， Haruhiko Ito, Nobuyoshi Mogi, Kohtaro Okada, and Hiroki Tsudome

• 8．

  Influence of voltage on etching rate of hydrogenated amorphous carbon films with HNO3 studied using surface plasmon resonance， Japanese Joournal of Applied Physics， 55巻， 020302 号， 1頁 ～ 4頁， 2016年02月01日， S. Tunmee, Y. Nakaya, X.-L. Zhou, S. Arakawa, K. Komatsu, H. Ito, and H. Saitoh

• 9．

  Study of Synchrotron Radiation Near-Edge X-Ray Absorption Fine-Structure of Amorphous Hydrogenated Carbon Films at Various Thicknesses， Journal of Nanomaterials， 2015巻， 276790号， 1頁 ～ 7頁， 2015年12月15日， S. Tunmee, R. Supruangnet, H. Nakajima, X. L. Zhou, S. Arakawa, T. Suzuki, K. Kanda, H. Ito, K. Komatsu, and H. Saitoh

• 10．

  Precursor of N atoms of hydrogenated amorphous carbon nitride films formed from the microwave discharge of C2H2/N2 gas mixture， Japanese Journal of Applied Physics， 55巻， 01AA12号， 1頁 ～ 9頁， 2015年12月01日， H. Ito, H. Tsudome, N. Mogi, and H. Saitoh

• 11．

  Production of CH(A2) radicals from the dissociative excitation reaction of C2H2 with microwave discharge flow of Ar， Japanese Journal of Applied Physics， 54巻， 06GA04号， 1頁 ～ 8頁， 2015年06月01日， Haruhiko Ito, Hiroki Tsudome

• 12．

  Laser-Spectroscopic measuremeents of the Free Radicals Produced from the Disssociation of C2H2 with the Miccrowave Discharge Flow of Ar， Transactions of Material Research Society of Japan， 40巻， 1号， 33頁 ～ 36頁， 2015年03月20日， Haruhiko Ito and Hiroki Tsudome

• 13．

  Mechanism of Production of CN(X2-sigma+) Radicals from the Decomposition Reaction of CH3CN with Microwave Discharge Flow of Ar， Plasma Chemistry and Plasma Processing， 34巻， 4号， 837頁 ～ 851頁， 2014年07月01日， Haruhiko Ito • Katsuaki Koshimura • Ayumi Yamamoto •Hiroki Tsudome • Nurul Izzaty Binti Zamri • Hitoshi Araki •Akira Wada

• 14．

  Analysis of the Production of the CH(A2) State from the Dissociative Excitation of Tetramethylsilane in the Electron-Cyclotron Resonance Plasma of Ar: The H2O-Addition Method， Japanese Journal of Applied Physics， 53巻， 3S2, 03DC01号， 1頁 ～ 7頁， 2014年03月05日， Haruhiko Ito, Rie Gappa

• 15．

  Fabrication of a-CNx films by RF-plasma decomposition of BrCN， Transactions of Material Society ofJapan， 38巻， 4号， 677頁 ～ 680頁， 2013年12月31日， H. Ito, K. Okada, T. Tsuda, H. Akasaka, H. Saitoh

• 16．

  Comprehensive Classification of Near-Edge X-ray Absorption Fine Structure Spectra of Si-Containing Diamond-Like Carbon Thin Films， Japanese Journal opf Applied Physics， 52巻， 095504号， 1頁 ～ 4頁， 2013年08月24日， K. Kanda, M. Niibe, A. Wada, H. Ito, T. Suzuki, T. Ohana, N. Ohtake, and H. Saitoh

• 17．

  (Me3N)Mo(CO)5‑Catalyzed Reduction of DMF by Disiloxane and Disilane Moieties: Fate of the Silicon-Containing Fragments， Organometallics， 32巻， 14号， 3788頁 ～ 3794頁， 2013年07月11日， Hemant K. Sharma, Renzo Arias-Ugarte, David Tomlinson, Rie Gappa, Alejandro J. Metta-Magaña,

• 18．

  Analysis of Dissociative Excitation Reaction of Tetramethylsilane with Microwave Discharge Flow of Ar， Transactions of Materials Research Society of Japan1nihonn ， 38巻， 2号， 239頁 ～ 242頁， 2013年06月30日， Haruhiko Ito and Rie Gappa

• 19．

  Fabrication of Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of ， Journal of Physics Confference Series， 441巻， 012039号， 1頁 ～ 4頁， 2013年06月13日， H. Ito, S. Onitsuka, R. Gappa, H. Saitoh, R. Roacho, K. H. Pannell, T. Suzuki, M. Niibe, and

• 20．

  Source of nitrogen atoms of amorphous carbon nitride films fabricated with microwave-plasma CVD processes， Transacctions of Material Research Society of Japan， 38巻， 1号， 31頁 ～ 34頁， 2013年03月31日， H. Ito, A. Yamamoto, T. Suzuki, and H. Saitoh

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